創意由你
  秀出才華
  虹橋藝術中心IP設計征集令！！！
  虹橋藝術中心，這一長寧區的璀璨地標，它不僅是建筑的杰作，更是文化與藝術的匯聚地，見證了無數精彩演出與難忘瞬間。
  如今，這座藝術殿堂即將迎來一次品牌換新的重要一步！東虹橋文化公司現面向全體集團內部職工，發起場館IP及衍生品設計征集活動，為我們的藝術明珠注入新的靈魂！
  這是一次專屬上服人的創意舞臺！
  PART-1
  我們期待
  獨一無二的“虹藝”IP形象(單個形象)：
  為虹橋藝術中心設計一個積極向上、立意健康的單個專屬IP形象（不得設計組合形象）；
  要求形象具有高辨識度、親和力與藝術氣質，體現虹橋藝術中心現代、時尚、活力、包容的品牌調性（同時考慮實物落地與商業化潛力）；
  需提供清晰的三視圖（正面/側面/背面）。
  PART-2
  參與方式
  （一）征集對象：
  上服集團全體在職職工；
  （二）征集時間：
  2025年8月4日至8月20日；
  （三）投稿要求：
  設計稿：初選階段提供JPG或PNG格式圖片，像素不小于800*800，分辨率不低于300dpi；
  創意說明：簡述設計理念、形象命名及寓意（文字形式）；
  著作權承諾：承諾作品為原創，未使用AI生成，且未侵犯任何第三方權益；
  衍生品設計（如有）：提供產品設計圖（效果圖/結構圖）、使用場景說明、設計理念（300字內）；
  （四）投稿方式：
  donghongqiao@shanghai-garment.com；
  （五）評審流程：
  由主辦方上海東虹橋文化發展有限公司組織，綜合創意性、藝術性、品牌契合度、可實現性等因素評選。
  PART-3
  重要須知
  原創性要求：作品必須為原創，不接受AI生成作品。除本次征集外，未曾公開發表。嚴禁侵犯他人知識產權或違反法律法規。侵權責任由投稿者自負，并取消資格；
  知識產權歸屬：獲獎作品的著作權將自動轉讓給主辦方（上海東虹橋文化發展有限公司），投稿者保留署名權；
  最終解釋權：本活動最終解釋權歸上海東虹橋文化發展有限公司所有。
  Fashion creativity Fashion creativity
  家人們，舞臺已經搭好
  聚光燈已就位！

  行動起來，期待你的精彩創意！！

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